ファブ内の二酸化炭素排出を減らす：より良い乾燥方法
正直言って、半導体ファブは莫大なエネルギーを消費します。そのエネルギーの多くは、熱処理や乾燥のために使われています。もし依然として従来の対流式オーブンを使っているなら、実質的には巨大な金属製の箱や空気を温めるためにお金を払っていることになります。これは無駄遣いです。
もし本当に二酸化炭素排出量を減らしたいのであれば、部屋全体を温めるのではなく、ウェハ自体を直接加熱する必要があります。ここで役立つのが赤外線です。
従来の方法の問題点
通常の乾燥プロセスを考えてみましょう。チャンバ全体や壁、空気など、すべてを温める必要があります。これは非効率的で時間もかかります。
私たちは短波長の赤外線ランプを使用しています。このランプは、中間要素を介さずに直接表面を加熱するので、速く、効率的です。エネルギー消費量を計算してみると、待機時のエネルギー損失が30％から50％減少します。これは電気代や地球環境にとって大きなメリットです。
適切な技術の活用
このシステムを機能させるために、高ワット数の石英ランプを使用します。嬉しいことに、これらのランプは特定の領域だけを加熱することができます。全体を一括して加熱する必要はなく、特定の場所の出力を調整することで、過度な加熱を避けることができます。また、SCRコントローラーを使って温度を安定させることができます。
ただし、注意点もあります。これらのランプは特に端の部分が非常に高温になります。冷却装置を適切に設計しなかったり、空気の流れが悪くなると、ランプが破壊されてしまいます。しかし、冷却を適切に行えば、問題なく動作します。
実際のメリット
環境面だけでなく、このシステムを使えばファブの運営がよりスムーズになります。赤外線システムは必要なスペースも格段に少なくて済みます。サイクルが短くなるため、追加の機械を購入したり設置したりする必要もありません。
全体として、運営がより効率的になります。さらに最適化したい場合は、このシステムとエネルギー回収装置を組み合わせると良いでしょう。そうすれば、冷却過程で発生する廃熱を他の目的に利用することができます。それは理にかなっています。