なぜ、MEMSウエハーに熱風を当てるのをやめるべきか もしMEMS製造工場で働いたことがあれば、その手順はよくわかるでしょう。湿式エッチングや洗浄を終えたら、次に必要なのは水分を取り除くことです。従来の工場では、単純に熱風をウエハーに当てて乾燥させていました。これは至る所で見られる光景です。 しか...

ファブ内の二酸化炭素排出を減らす：より良い乾燥方法 正直言って、半導体ファブは莫大なエネルギーを消費します。そのエネルギーの多くは、熱処理や乾燥のために使われています。もし依然として従来の対流式オーブンを使っているなら、実質的には巨大な金属製の箱や空気を温めるためにお金を払っていることになります。...

製造現場では、レジストの焼成時にわずかな偏差が生じても、やり直すことはできません。フォトレジストの焼成時に生じるわずかな温度変動だけで、Micro LEDエピウェーハ全体が台無しになってしまいます。そのため、表面全体の温度を±0.1℃以内に保つことができる乾燥ヒーターが必要です。これは、各焼成工程...

包装する直前に、洗浄後に残った水分はそのままにしておくわけにはいきません。それが封止剤の中に浸透してしまうのです。これによりCTEが変化し、将来的に剥離が起こる可能性があります。また、もし依然として従来のホットプレートを使用している場合、エッジビードの問題や粒子の発生といった問題が常に存在します。...

リソグラフィー工程においては、焼成時の温度がわずかに変動しても、線幅の制御が崩れてしまいます。また、一方の場所では高温になり、別の場所では低温になるような状況では、フォトレジストが破損する可能性が高くなります。ウェーハの乾燥処理は単なる雑用ではなく、歩留まりを左右する重要な要素です。私たちは、予算...

On the line, wafer drying isn’t just another step. It’s the last thermal checkpoint before you lock in yield. ライン上におけるウエハの乾燥は単なる工程の一つではなく...