半導体製造装置での熱の無駄遣いを止めましょう。
ほとんどの加熱要素は、エネルギーをあらゆる方向に放出してしまいます。半導体製造工場では、これは大きな問題です。
考えてみてください。ウェーハを加熱しようとしているのに、結果的に機械の内部も過度に加熱されてしまいます。これは電力の無駄遣いであり、また、作業員にとっても安全上のリスクとなります。これを解決するために、指向性のあるIR加熱を利用します。
実際の仕組み
指向性のあるIRランプは、反射板や波長調整機能を使って、エネルギーを正確に必要な場所に送り込みます。そうすることで、熱が局所的に集中し、機械の壁面が「高温域」となって技術者が火傷したり、熱膨張によって機械の枠が変形したりすることがありません。熱は本来の場所に留まります。
選択肢
必要な熱量に応じて、適切なランプを選ぶことができます。一般的には、速く加熱できる短波長の石英管が使われます。これらのランプは標準的な工業用電圧で動作するため、既存の電源システムに簡単に接続できます。高速処理が必要な場合は、ランプの熱を処理できる十分な冷却ファンが必要です。
現場への影響
最も大きなメリットは、機械の壁面が触っても冷たいままでいられることです。常に周囲の熱に対処する必要がなくなります。これはチームにとって大きな安心感を与え、また、チャンバー内の敏感な電子機器が破損するのも防げます。
切り替えるのは、一般的には従来のヒーターを交換するだけです。ウェーハの温度をより精密に制御でき、作業員にとっても安全な作業環境が確保されます。
ただし、ビームが非常に集中しているため、設置時にはより正確な位置調整が必要です。少しでもずれてしまうと、基板に低温部分ができてしまいます。