クラス100のクリーンルームを実際に清潔な状態に保つために もし、クラス100の環境でシリコンウェーハを加熱する場合、その恐ろしさはご存知でしょう。ほんの微細なほこりの粒——たった1マイクロメートル程度——があるだけで、作業したウェーハ全体が無用のものになってしまいます。 問題は、一般的な加熱素子...

なぜ、MEMSウエハーに熱風を当てるのをやめるべきか もしMEMS製造工場で働いたことがあれば、その手順はよくわかるでしょう。湿式エッチングや洗浄を終えたら、次に必要なのは水分を取り除くことです。従来の工場では、単純に熱風をウエハーに当てて乾燥させていました。これは至る所で見られる光景です。 しか...

クラス100のクリーンルームを常に清潔に保つために クラス100のクリーンルームを運用しているとき、目に見えないものとの戦いが絶え間なく続きます。わずか1マイクロメートルのほこりでも、ウエハー全体が台無しになってしまいます。本当に厄介です。そして、通常、その原因となるのは予想外のものであり、それは...

なぜ金メッキされた反射器がウェーハの硬化処理において重要なのか ウェーハを硬化処理する際、実際にはエネルギーの管理が非常に重要です。ほとんどの人は通常のアルミニウム製の反射器を使用していますが、問題点があります。その熱の多くが機械の筐体に漏れてしまうのです。これは無駄なエネルギーの消費です。 だか...

なぜ私たちがオーブンを使わずに赤外線による硬化処理を採用するのか 半導体業界は、ついに古い方式の対流式オーブンを使わなくなりつつあります。それも当然です。環境保護の観点や無鉛材料の使用が求められる今、昔の方法ではもはや不十分です。私たちは赤外線による硬化処理に切り替えています。これにより、有害な化...

重負荷下でのウェーハ加熱におけるランプの故障対策 ウェーハ加熱システムを限界まで使い込むと、危険が伴います。特に、クォーツランプは破裂する可能性があります。正直言って、ランプが割れると大変なことになります。稼働時間が失われるだけでなく、ガラスの破片や化学物質がウェーハ全体に飛び散ってしまいます。一...

製造現場では、レジストの焼成時にわずかな偏差が生じても、やり直すことはできません。フォトレジストの焼成時に生じるわずかな温度変動だけで、Micro LEDエピウェーハ全体が台無しになってしまいます。そのため、表面全体の温度を±0.1℃以内に保つことができる乾燥ヒーターが必要です。これは、各焼成工程...

ファブの現場では、ウェーハ乾燥用のランプが故障すると、それは単なる停止にとどまらず、フォトレジスト処理が完全に中断されてしまいます。また、加熱温度の変動もすぐに起こり、その結果、線幅のばらつきや歩留まりの低下が生じます。ですから、今すぐ規格に合致する交換用ランプが必要です。 技術的に重要な点 当社...

リソグラフィー工程においては、焼成時の温度がわずかに変動しても、線幅の制御が崩れてしまいます。また、一方の場所では高温になり、別の場所では低温になるような状況では、フォトレジストが破損する可能性が高くなります。ウェーハの乾燥処理は単なる雑用ではなく、歩留まりを左右する重要な要素です。私たちは、予算...

ファブフロアにおいて、ウォーターマークが残る、または温度を±0.1°C以内に保持できないリンスドライヤーはボトルネックではなく、歩留まりを著しく低下させる要因である。クリーンリンス工程後のウエハーは、熱応力を与えず、フォトレジストの歪みを発生させず、粒子を付加しない状態で水分を除去しなければならな...

リソグラフィフロアでは、たった1℃のずれでもソフトベーク時にフォトレジストの膜厚が規格外になる。ハードベークの非均一性はパターン崩壊の原因となる。ウェハートラック上の加熱ランプは単なる部品ではなく、プロセスの信頼性をシフトごとに維持するための熱的基準点である。 内部構成の要点 このランプは石英封入...