Op de productielijn wacht een 200 mm grote wafer op zijn beurt om behandeld te worden met fotorezist. Het verhitten is geen optie – het maakt deel uit van de specificaties. Zelfs een kleine temperatuurverandering kan er toe leiden dat de belangrijke dimensies van de wafer veranderen. Dan is het proces niet meer mogelijk. We hebben voor de verwarming van de epitaxiale laag infraroodlampen gebruikt, zodat deze verliezen worden voorkomen.
Wat technisch gezien belangrijk is: We gebruiken kortegolf-infraroodquartzhalogeenemitters voor snel en rechtstreeks stralingsverwarming. Het spectrum van deze lampen dringt gemakkelijk door tot in silicium en dunne lagen. Het systeem zorgt ervoor dat de temperatuur over het hele gebied waar de wafer wordt verwerkt binnen ±0,1°C blijft. De herhaalbaarheid ligt bij ±0,2°C tussen verschillende batches.
De reactietijd is minder dan 50 ms, zodat de temperatuur precies kan worden gereguleerd tijdens het verhitten en drogen van de wafer. De werking in een schone ruimte is ook goed georganiseerd: het apparaat werkt in klasse 1–100, zonder dat er particules worden gegenereerd. De behuizing van de lampen is gemaakt van zeer zuivere materialen, zodat er minder gassen vrijkomen.
Waarom dit werkt waar het nodig is: Bij lithografie is het belangrijk om een herhaalbare verhittingsprocedure te hebben, zodat de dikte van de fotorezist precies kan worden vastgesteld en storingen worden voorkomen. Bij verpakkingen is het belangrijk om het materiaal te laten stollen zonder dat het materiaal te heet wordt. Tijdens het reinigen en drogen is het belangrijk om controle over de temperatuur te hebben, zodat oplosmiddelen kunnen worden verdreven zonder dat er problemen ontstaan.
Deze lampen zorgen voor deze controle, en ze doen dit met minder energie dan conventionele ovens. De snelle temperatuurréductie verkort ook de tijd die nodig is voor het proces. We hebben apparaten gezien die meer dan 5.000 uur hebben gewerkt met minder dan 5% afname in prestaties – dat betekent minder lampwissels en een stabiel proces.
Wat je van tevoren moet weten: Voor de installatie moet je rekening houden met de mechanische specificaties en de elektrische aansluitingen van het apparaat. Let op de vereiste spanning, type connector en koeling – of dat nu mechanische of waterkoeling is – voordat je het apparaat bestelt.
Het licht van de lampen komt in één lijn, dus montages en bevestigingen kunnen schaduwen veroorzaken en lokale koude plekken creëren. Alignement en vormgeving van het lichtstraal zijn belangrijk bij de instellingen van het apparaat.
Er zal een korte inwerkperiode nodig zijn om de output te stabiliseren en om te controleren of de temperatuur over het hele oppervlak van de wafer gelijkmatig is. Eenmaal alles goed ingesteld, blijft het proces stabiel.