Di fasiliti pengeluaran, anda tidak boleh memulakan proses pengeringan semula jika suhu berubah walaupun sedikit sebanyak. Perubahan suhu yang kecil semasa proses pengeringan fotoresist boleh merosakkan keseluruhan wafer Micro LED tersebut. Oleh itu, diperlukan pemanas yang mampu mengekalkan suhu pada tahap ±0.1°C di seluruh permukaan wafer—setiap kali proses pengeringan dilakukan, setiap syif kerja.
Apa yang penting dalam proses ini
Kita menggunakan elemen inframerah gelombang pendek dengan kawalan tertutup yang cepat, agar profil haba tetap konsisten dari satu syif ke syif yang lain. Kestabilan suhu pada tahap wafer adalah ±0.1°C. Zon panas pula direka untuk beroperasi dalam persekitaran kluster bersih kelas 1–100, tanpa penghasilan zarah-zarah yang tidak diinginkan.
Proses pengeringan yang lembut dan keras memainkan peranan penting dalam menentukan dimensi yang tepat. Dengan mengawal suhu dengan ketat, kawalan dimensi akan tetap terjaga. Platform ini direka untuk beroperasi 24/7—komponen-komponennya telah diuji secara menyeluruh, jadual penyelenggaraannya dapat diramalkan, dan tiada risiko waktu henti operasi yang tidak dijangka.
Mengapa cara ini sesuai untuk Micro LED
Proses pembuatan Micro LED memerlukan kawalan yang sangat tepat terhadap proses litografi dan pengeringan. Penyingkiran bahan pelarut perlu dilakukan sepenuhnya, namun fotoresist masih perlu kekal dalam bentuk asalnya. Pemanas yang digunakan membantu menstabilkan suhu semasa proses pengeringan, sekali gus mengurangkan keperluan untuk melakukan proses pengeringan semula. Ini seterusnya meningkatkan kadar kelulusan produk pada percubaan pertama, serta mengurangkan jumlah sisa produk. Penggunaan tenaga juga dapat dikawal dengan baik—kawalan suhu yang tepat dan pengurangan kerugian semasa masa menunggu dapat mengurangkan kos operasi tanpa mengurangkan kelajuan pengeluaran.
Perhatian yang perlu diberikan
Pemanas-pemanas ini boleh dipasang pada sistem yang sedia ada menggunakan antaramuka mekanikal dan elektrikal standard. Namun, penyesuaian posisi pemanas dan arus udara perlu dilakukan dengan teliti agar sesuai dengan spesifikasi alat tersebut. Anda perlu melakukan ujian awal untuk menyesuaikan parameter proses pengeringan mengikut jenis fotoresist dan substrat yang digunakan. Jika bekerja dalam keadaan kelembapan tinggi, anda perlu merancang cara untuk menguruskan kelembapan tersebut—kita telah menentukan konfigurasi sistem pengudaraan terlebih dahulu. Apabila kadar kelulusan produk bergantung pada suhu, kawalan suhu menjadi sangat penting. Pastikan pemanas yang digunakan sesuai dengan spesifikasi proses pengeluaran, agar proses dapat berjalan lancar.