Sur la ligne de production, une wafer de 200 mm attend son tour pour être traitée avec du photorésistant. Le chauffage n’est pas facultatif : c’est une exigence technique. Même une petite variation de température peut entraîner des changements dans les dimensions critiques de la wafer. Dans ce cas, le processus est annulé. Nous avons donc utilisé des lampes infrarouges pour assurer un chauffage précis et rapide. Le spectre émis par ces lampes pénètre efficacement dans le silicium et les couches minces. Le système permet de maintenir une uniformité thermique de ±0,1 °C dans toute la zone de traitement, avec une répétabilité de ±0,2 °C d’un cycle à l’autre. Le temps de réponse est inférieur à 50 ms, ce qui permet de maintenir une température constante pendant le chauffage et la durcissement du photorésistant. La conception du système prend en compte les exigences des environnements propres : fonctionnement en classe 1–100, sans génération de particules, avec des matériaux de haute pureté pour limiter les émissions gazeuses. Cela permet d’obtenir un contrôle précis sur la température, et cela avec moins d’énergie que les fours de convection. La vitesse de refroidissement permet également de réduire le temps de traitement. Nous avons vu des unités fonctionner plus de 5 000 heures sans qu’il y ait moins de 5 % de baisse de performance – ce qui signifie moins de remplacements de lampes et une stabilité du processus. Ce qu’il faut savoir avant d’acheter : l’installation dépend de l’adaptation de l’enveloppe mécanique et de l’interface électrique de l’appareil. Il est nécessaire de connaître la tension requise, le type de connecteur, ainsi que le système de refroidissement (air ou eau). La lumière émise par les lampes est linéaire ; donc, les supports peuvent créer des ombres et des zones froides locales. L’alignement et la forme du faisceau font partie intégrante de la configuration, et non pas quelque chose à gérer ultérieurement. Un court temps de mise en service suffit pour stabiliser la performance des lampes et vérifier l’uniformité de la température sur votre substrat. Une fois que tout est ajusté, le processus reste stable.