Bộ sấy wafer bằng đèn hồng ngoại

Tue, 09 Jun 2026 00:50:32 +0800

Trên dây chuyền, sấy wafer không chỉ là một bước đơn thuần. Đây là điểm kiểm tra nhiệt cuối cùng trước khi bạn khóa chặt hiệu suất sản xuất.
Một điểm lạnh trong quá trình sấy IR sẽ xuất hiện dưới dạng vết watermark. Nhiệt độ vượt quá giới hạn sẽ làm độ cứng của photoresist lệch chuẩn. Cả hai đều tạo ra khiếm khuyết trên chip. Chúng tôi thiết kế bộ gia nhiệt IR để loại bỏ sự không chắc chắn này, cung cấp nhiệt ổn định và lặp lại chính xác ngay tại vị trí wafer.

Đèn sưởi đường đi wafer

Sat, 06 Jun 2026 00:54:59 +0800

Trên tầng lithography, một lần soft bake chệch chỉ một độ cũng làm độ dày photoresist sai quy chuẩn. Non-uniformity ở hard bake? Đó là nguyên nhân gây sập mẫu. Các đèn gia nhiệt trên wafer track không chỉ là các bộ phận—chúng là chốt nhiệt giữ cho quy trình ổn định, ca này qua ca khác.

Những điểm quan trọng bên trong

Chúng tôi thiết kế đèn này dựa trên các bóng halogen phát bức xạ hồng ngoại sóng ngắn (SWIR) trong vỏ thạch anh. Mục đích là truyền năng lượng trực tiếp vào photoresist, không làm nóng buồng xử lý. Bạn đạt được độ đồng đều nhiệt ở mức wafer trong phạm vi ±0,1°C trên bề mặt bake, cùng độ ổn định điểm đặt duy trì liên tục theo nhịp độ làm việc 24/7 của fab. Đầu ra duy trì lặp lại từ 100°C đến 250°C, với thời gian hồi phục dưới giây sau khi tải wafer—giúp ngân sách nhiệt được kiểm soát chặt chẽ. Bộ đóng gói phù hợp tiêu chuẩn phòng sạch lớp 1–100, được xác minh không phát sinh hạt qua giám sát tại chỗ, và tương thích với bố cục cũng như chuẩn giao diện của các nền tảng wafer track chính.

Bánh Wafer on Warm IR Heating Hardware

Bộ sấy wafer bằng đèn hồng ngoại

Đèn sưởi đường đi wafer