<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Đèn Bàn on Warm IR Heating Hardware</title>
		<link>http://warm-ir-heater-ware.com/vi/tags/%C4%91%C3%A8n-b%C3%A0n/</link>
		<description>Recent content in Đèn Bàn on Warm IR Heating Hardware</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 06 Jun 2026 00:54:59 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-ware.com/vi/tags/%C4%91%C3%A8n-b%C3%A0n/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Đèn sưởi đường đi wafer</title>
				<link>http://warm-ir-heater-ware.com/vi/posts/wafer-track-heating-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 06 Jun 2026 00:54:59 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-ware.com/vi/posts/wafer-track-heating-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ware.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Đèn sưởi đường đi wafer&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trên tầng lithography, một lần soft bake chệch chỉ một độ cũng làm độ dày photoresist sai quy chuẩn. Non-uniformity ở hard bake? Đó là nguyên nhân gây sập mẫu. Các đèn gia nhiệt trên wafer track không chỉ là các bộ phận—chúng là chốt nhiệt giữ cho quy trình ổn định, ca này qua ca khác.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Những điểm quan trọng bên &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;trong&lt;/a&gt;&lt;/strong&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Chúng tôi thiết kế đèn này dựa trên các bóng halogen phát bức xạ hồng ngoại sóng ngắn (SWIR) trong vỏ thạch anh. Mục đích là truyền năng lượng trực tiếp vào photoresist, không làm nóng buồng xử lý. Bạn đạt được độ đồng đều nhiệt ở mức wafer trong phạm vi ±0,1°C trên bề mặt bake, cùng độ ổn định điểm đặt duy trì liên tục theo nhịp độ làm việc 24/7 của fab. Đầu ra duy trì lặp lại từ 100°C đến 250°C, với thời gian hồi phục dưới giây sau khi tải wafer—giúp ngân sách nhiệt được kiểm soát chặt chẽ. Bộ đóng gói phù hợp tiêu chuẩn phòng sạch lớp 1–100, được xác minh không phát sinh hạt qua giám sát tại chỗ, và tương thích với bố cục cũng như chuẩn giao diện của các nền tảng wafer track chính.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
