Лампочка on Warm IR Heating Hardware

Дешева лампочка для сушіння вафель

Thu, 18 Jun 2026 00:52:08 +0800

На етапі літографії навіть незначні коливання температури під час висушування пластин можуть порушити контроль за шириною ліній на поверхні пластини. Якщо ж процес висушування відбувається з різною температурою в різних точках, це призводить до пошкодження фотополімеру. Висушування пластин – це не просто додатковий етап обробки; це ключовий фактор, який впливає на якість продукції. Ми розробили спеціальні лампи для висушування пластин, щоб забезпечити контроль над температурою, навіть коли потрібно дотримуватися певних бюджетних обмежень.

Що є важливим з технічної точки зору: Лампа налаштована так, щоб забезпечити термічну однорідність на поверхні пластини в межах ±0,1°C. Це дозволяє фотополімеру отримувати однакові умови нагріву під час кожної процедури. Профіль короткохвильового інфрачервоного випромінювання швидко змінюється та швидко повертається до норми, що дозволяє контролювати час процедури та уникати перегріву. Кварцовий корпус лампи підходить для використання в чистих приміщеннях класу 1–100. Геометрія нитки та кріплення розроблена так, щоб під час роботи утворення частинок було мінімальним. Робочі характеристики лампи залишаються стабільними протягом понад 5 000 годин. Крім того, лампа підходить для використання в стандартних кріпленнях, які використовуються в модулях для висушування пластин.

Галогенна лампа для нагріву кварцу в напівпровідниках

Wed, 17 Jun 2026 11:10:40 +0800

На лінії 300 мм зміна температури на рівні 2°C під час процедури „soft bake“ є не просто зміною параметрів CD. Це означає втрату безлічі вихідних матеріалів. Тож ми створили кварцеву галогенну лампу для підтримки стабільної температури під час процесу, навіть коли обладнання працює на повну потужність.

Що має значення внутрішньо в пристрої
Емітер – це короткохвильовий галоген у високочистотному кварцовому корпусі; він випромінює жарку енергію з низькою тепловою інерцією. На поверхні пластини однорідність температури залишається в межах ±0,1°C, тож фоточутлива субстанція отримує стабільну температуру, без „гарячих точок“. Профіль лампи дозволяє підтримувати стабільну температуру як під час процедури „soft bake“, так і „hard bake“. Стабільна продуктивність лампи забезпечує точність критичних параметрів протягом тривалого часу роботи. Сумісність з класами чистих приміщень 1–100 досягається завдяки матеріалам з низьким рівнем випаровування та конструкції пристрою, яка не спричиняє появи частинок під час нагрівання.

Інфрачервона лампа з золотим відбивачем

Thu, 04 Jun 2026 00:38:04 +0800

Out on the fab floor, you learn fast that a half-degree drift during a photoresist bake can push linewidths enough to scrap a whole lot of wafers. Uptime and repeatability aren’t “nice to have.” They are the process.

What actually matters under the hood

We built the infrared bulb with a gold reflector to deliver stable, directional heat with tight spectral control. The payoff is wafer-level temperature uniformity within ±0.1°C across the bake surface. The gold reflector boosts radiant efficiency, so you cut warm-up time and the setpoint settles faster. You get consistent output after 5,000+ hours, with less than 5% intensity drop. And the design keeps particle generation at zero, which holds up in cleanroom Class 1–100 environments.