<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Semicondutores on Warm IR Heating Hardware</title>
		<link>http://warm-ir-heater-ware.com/pt/tags/semicondutores/</link>
		<description>Recent content in Semicondutores on Warm IR Heating Hardware</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>pt</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 18:47:09 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-ware.com/pt/tags/semicondutores/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Secagem de semicondutores antes da embalagem na fábrica</title>
				<link>http://warm-ir-heater-ware.com/pt/posts/drying-semiconductors-before-packaging-fab/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 18:47:09 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-ware.com/pt/posts/drying-semiconductors-before-packaging-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ware.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Secagem de semicondutores antes da embalagem na fábrica&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Logo antes da embalagem, toda a umidade restante após a limpeza não fica parada no local – ela pode migrar para dentro do revestimento que protege o componente. Isso altera o CTE do material, o que pode causar problemas de descolamento do revestimento posteriormente. Além disso, se você ainda usar placas de aquecimento convencionais, sabe bem dos problemas que isso causa: é difícil manter a uniformidade nas bordas do componente, e a geração de partículas é um problema que não se pode permitir. É necessário ter um processo de secagem e cura do fotoresist que seja preciso, reproduzível e eficiente termicamente.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
