<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>MEMS on Warm IR Heating Hardware</title>
		<link>http://warm-ir-heater-ware.com/pl/tags/mems/</link>
		<description>Recent content in MEMS on Warm IR Heating Hardware</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>pl</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 26 Jul 2026 09:59:37 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-ware.com/pl/tags/mems/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Grzałka do suszenia płytek czujników MEMS</title>
				<link>http://warm-ir-heater-ware.com/pl/posts/comparing-infrared-heating-to-hot-air-circulation-for-mems-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Sun, 26 Jul 2026 09:59:37 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-ware.com/pl/posts/comparing-infrared-heating-to-hot-air-circulation-for-mems-wafer-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ware.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Grzałka do suszenia płytek czujników MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;h1 id=&#34;dlaczego-należy-przestać-dmuchać-gorącym-powietrzem-na-płytki-mems&#34;&gt;Dlaczego należy przestać dmuchać gorącym powietrzem na płytki MEMS&lt;/h1&gt;&#xA;&lt;p&gt;Jeśli spędziłeś choć trochę czasu w zakładzie produkcyjnym z wykorzystaniem technologii MEMS, znasz już tę procedurę. Kończysz proces solwencyjnego ścierania lub czyszczenia, a teraz musisz usunąć wszystką wilgoć z płytek. Większość starych urządzeń &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;polega&lt;/a&gt; na dmuchaniu gorącym powietrzem na płytki. Widzimy to wszędzie.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Ale oto problem: gorące powietrze działa powoli. Opiera się na konwekcji, co oznacza długie czekanie, gdy próbujesz dotrzymać terminu. Ponadto dmuchanie powietrzem jest w zasadzie zachętą dla cząstek kurzu, by osiadły tam, gdzie nie powinny.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
