Goedkope waferdrooglampbol

Thu, 18 Jun 2026 00:52:08 +0800

Op de lithografieafdeling kan een lichte verschuiving in de baktemperatuur leiden tot problemen met de controle van de dikte van de fotorezystlaag. Een te hoge temperatuur op één plek en een te lage temperatuur op een andere plek zorgt er uiteindelijk voor dat de fotorezyst niet meer goed functioneert. Het drogen van de wafers is geen onbelangrijk onderdeel van het proces – het heeft invloed op de kwaliteit van de productie. We hebben onze lampen zo ontworpen dat de temperatuur nauwkeurig onder controle blijft, zelfs wanneer rekening moet worden gehouden met beperkingen qua budget.

Verwarmingslamp voor wafertrack

Sat, 06 Jun 2026 00:54:59 +0800

Op de lithografievloer zorgt een zachte bake die zelfs een graad afwijkt ervoor dat de fotoresistdikte buiten specificatie raakt. Non-uniformiteit bij hard bake? Dat nodigt uit tot patrooninstorting. De verwarmingslampen op een wafer track zijn niet zomaar onderdelen—they vormen het thermische anker dat het proces eerlijk houdt, dienst na dienst.

Wat er onder de motorkap telt
We hebben deze lamp gebouwd rond kortgolvige infrarood (SWIR) halogeenemittors in een kwartsomhulsel. Het doel is directe energiekoppeling in de fotoresist, zonder de kamer te verwarmen. U krijgt thermische uniformiteit op wafer-niveau binnen ±0,1°C over het bake-oppervlak, en een setpointstabiliteit die standhoudt bij 24/7 fab-rendement. De output blijft herhaalbaar van 100°C tot 250°C, met een herstel in minder dan een seconde na waferplaatsing—zodat uw thermisch budget strak blijft. Het pakket is cleanroom-compatibel voor Class 1–100, geverifieerd op nul deeltjesgeneratie via in-situ monitoring, en past in de footprint en interfaceconventies van de grote wafer track-platforms.

Wafer on Warm IR Heating Hardware

Goedkope waferdrooglampbol

Verwarmingslamp voor wafertrack