<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pengeringan on Warm IR Heating Hardware</title>
		<link>http://warm-ir-heater-ware.com/ms/tags/pengeringan/</link>
		<description>Recent content in Pengeringan on Warm IR Heating Hardware</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sun, 26 Jul 2026 10:00:04 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-ware.com/ms/tags/pengeringan/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS</title>
				<link>http://warm-ir-heater-ware.com/ms/posts/comparing-infrared-heating-to-hot-air-circulation-for-mems-wafer-drying/</link>
				<pubDate>Sun, 26 Jul 2026 10:00:04 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-ware.com/ms/posts/comparing-infrared-heating-to-hot-air-circulation-for-mems-wafer-drying/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ware.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Mengapa anda harus berhenti menggunakan udara panas untuk mengeringkan wafer MEMS anda&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Jika anda pernah bekerja di fasiliti pengeluaran MEMS, pasti anda tahu prosesnya. Setelah selesai proses etching atau pembersihan, anda perlu menghilangkan kelembapan yang masih ada pada wafer tersebut. Kebanyakan kaedah lama menggunakan udara panas untuk tujuan ini. Namun, kaedah ini memerlukan masa yang lama. Selain itu, penggunaan udara panas juga boleh menyebabkan zarah-zarah kotor melekat pada wafer tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Masalah yang timbul&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Fikirkan bagaimana udara panas berfungsi. Anda perlu memanaskan seluruh bilik sebelum wafer mula kering. Ini merupakan pembaziran masa.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
