<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Pembahagi Arus Separa on Warm IR Heating Hardware</title>
		<link>http://warm-ir-heater-ware.com/ms/tags/pembahagi-arus-separa/</link>
		<description>Recent content in Pembahagi Arus Separa on Warm IR Heating Hardware</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 22 Jun 2026 18:47:10 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-ware.com/ms/tags/pembahagi-arus-separa/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Mengeringkan bahan semikonduktor sebelum proses pembungkusan di kilang.</title>
				<link>http://warm-ir-heater-ware.com/ms/posts/drying-semiconductors-before-packaging-fab/</link>
				<pubDate>Mon, 22 Jun 2026 18:47:10 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-ware.com/ms/posts/drying-semiconductors-before-packaging-fab/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ware.com/images/1764273a9805a56244015746cb190d47.png&#34; alt=&#34;Mengeringkan bahan semikonduktor sebelum proses pembungkusan di kilang.&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Tepat sebelum proses pembungkusan, &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;kelembapan&lt;/a&gt; yang masih tinggal selepas pembersihan tidak akan tetap berada di situ sahaja – ia boleh meresap ke dalam bahan pelindung tersebut. Ini akan mengubah nilai CTE, dan seterusnya menyebabkan masalah delaminasi pada masa akan datang. Jika anda masih menggunakan kaedah pemanasan konvensional, anda pasti tahu betapa sukarnya untuk mengawal kelembapan di bahagian tepi wafer, serta masalah yang timbul akibat penghasilan zarah-zarah kecil. Anda memerlukan proses pengeringan dan pemprosesan fotoresist yang bersih, boleh diulang, dan mampu mengawal suhu dengan tepat.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
