Mentol on Warm IR Heating Hardware

Lampu pengering wafer yang berharga murah

Thu, 18 Jun 2026 00:52:08 +0800

Di ruang litografi, perubahan suhu semasa proses pembakaran yang sedikit sahaja pun boleh merosakkan kawalan ketebalan lapisan fotoresist. Proses pembakaran yang berlaku pada suhu yang tinggi di satu kawasan dan rendah di kawasan lain pula akan menyebabkan kegagalan lapisan fotoresist. Proses pengeringan wafer bukanlah sesuatu yang remeh – ia merupakan faktor penting yang mempengaruhi kualiti produk. Kami telah merancang mentol lampu pengeringan wafer ini agar dapat mengawal suhu dengan baik, walaupun dalam keadaan bajet yang terhad.

Bulb pemanas jenis kuarz halogen untuk kegunaan semikonduktor

Wed, 17 Jun 2026 11:10:40 +0800

Pada garis pengeluaran 300mm, perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses “soft bake” bukan sekadar perubahan kecil pada dimensi cakera silikon yang dihasilkan. Ia merupakan pembaziran sumber daya yang besar. Oleh itu, kami mencipta mentol pemanas jenis halogen kuarsa untuk memastikan suhu tetap stabil semasa proses pengeluaran, walaupun ketika mesin beroperasi pada kelajuan maksimum.

Apa yang penting dalam proses ini
Mentol ini menggunakan cahaya halogen berfrekuensi rendah yang terbungkus dalam selubung kuarsa berkualiti tinggi. Cahaya ini menghasilkan haba dengan cepat, dan inersia termalnya rendah. Di permukaan cakera silikon, keseragaman suhu kekal dalam lingkungan ±0.1°C, sehingga bahan fotoresest dapat menerima suhu yang konsisten, tanpa adanya titik panas yang tidak seragam. Reka bentuk mentol ini membolehkan kawalan suhu yang tepat, baik semasa proses “soft bake” mahupun “hard bake”. Hasilnya, dimensi cakera silikon tetap stabil walaupun proses berlangsung untuk jangka masa yang lama. Keserasian dengan ruang bersih kelas 1–100 dicapai melalui penggunaan bahan yang tidak mengeluarkan gas berbahaya, serta reka bentuk yang tidak menyebabkan peningkatan jumlah zarah debu ketika mesin beroperasi pada suhu tinggi.

Bola inframerah dengan reflektor emas

Thu, 04 Jun 2026 00:38:04 +0800

Out on the fab floor, anda akan cepat belajar bahawa pergeseran separuh darjah semasa proses photoresist bake boleh menolak lebar garis cukup untuk membuang banyak wafer sekaligus. Masa operasi dan kebolehulangan bukanlah “keperluan tambahan.” Ia adalah proses itu sendiri.

Apa yang sebenarnya penting di bawah permukaan

Kami membina mentol inframerah dengan reflektor emas untuk menyampaikan haba yang stabil dan berarah dengan kawalan spektrum yang ketat. Hasilnya adalah keseragaman suhu tahap wafer dalam lingkungan ±0.1°C merentasi permukaan bake. Reflektor emas meningkatkan kecekapan radiasi, jadi anda dapat memendekkan masa pemanasan dan setpoint stabil lebih cepat.