Mengeringkan on Warm IR Heating Hardware

Pengauditan tenaga untuk proses pengeringan di fasiliti tersebut

Fri, 17 Jul 2026 01:53:20 +0800

Mengurangkan penggunaan karbon di kilang pembuatan semikonduktor: Cara yang lebih baik untuk proses pengeringan
Sejujurnya, kilang pembuatan semikonduktor memerlukan banyak tenaga. Kebanyakan tenaga tersebut digunakan untuk proses pemanasan dan pengeringan. Jika anda masih menggunakan kaedah pengeringan lama, anda sebenarnya sedang membazir tenaga dengan memanaskan ruangan besar dan udara di dalamnya. Ini merupakan pembaziran yang tidak perlu.

Jika anda ingin mengurangkan jejak karbon anda, anda perlu berhenti memanaskan seluruh ruangan dan sebaliknya memanaskan wafer secara langsung. Inilah kelebihan penggunaan sinar inframerah (IR).

Pemanas untuk mengeringkan wafer Micro LED

Wed, 01 Jul 2026 06:23:55 +0800

Di fasiliti pengeluaran, anda tidak boleh memulakan proses pengeringan semula jika suhu berubah walaupun sedikit sebanyak. Perubahan suhu yang kecil semasa proses pengeringan fotoresist boleh merosakkan keseluruhan wafer Micro LED tersebut. Oleh itu, diperlukan pemanas yang mampu mengekalkan suhu pada tahap ±0.1°C di seluruh permukaan wafer—setiap kali proses pengeringan dilakukan, setiap syif kerja.

Apa yang penting dalam proses ini
Kita menggunakan elemen inframerah gelombang pendek dengan kawalan tertutup yang cepat, agar profil haba tetap konsisten dari satu syif ke syif yang lain. Kestabilan suhu pada tahap wafer adalah ±0.1°C. Zon panas pula direka untuk beroperasi dalam persekitaran kluster bersih kelas 1–100, tanpa penghasilan zarah-zarah yang tidak diinginkan.

Mengeringkan bahan semikonduktor sebelum proses pembungkusan di kilang.

Mon, 22 Jun 2026 18:47:10 +0800

Tepat sebelum proses pembungkusan, kelembapan yang masih tinggal selepas pembersihan tidak akan tetap berada di situ sahaja – ia boleh meresap ke dalam bahan pelindung tersebut. Ini akan mengubah nilai CTE, dan seterusnya menyebabkan masalah delaminasi pada masa akan datang. Jika anda masih menggunakan kaedah pemanasan konvensional, anda pasti tahu betapa sukarnya untuk mengawal kelembapan di bahagian tepi wafer, serta masalah yang timbul akibat penghasilan zarah-zarah kecil. Anda memerlukan proses pengeringan dan pemprosesan fotoresist yang bersih, boleh diulang, dan mampu mengawal suhu dengan tepat.

Lampu pengering wafer yang berharga murah

Thu, 18 Jun 2026 00:52:08 +0800

Di ruang litografi, perubahan suhu semasa proses pembakaran yang sedikit sahaja pun boleh merosakkan kawalan ketebalan lapisan fotoresist. Proses pembakaran yang berlaku pada suhu yang tinggi di satu kawasan dan rendah di kawasan lain pula akan menyebabkan kegagalan lapisan fotoresist. Proses pengeringan wafer bukanlah sesuatu yang remeh – ia merupakan faktor penting yang mempengaruhi kualiti produk. Kami telah merancang mentol lampu pengeringan wafer ini agar dapat mengawal suhu dengan baik, walaupun dalam keadaan bajet yang terhad.

Pemanas inframerah pengering wafer

Tue, 09 Jun 2026 00:50:32 +0800

On the line, pengeringan wafer bukan sekadar satu langkah lagi. Ia adalah pemeriksaan terma terakhir sebelum anda mengunci hasil pengeluaran.

Titik sejuk semasa pengeringan IR muncul sebagai tanda air. Lebihan haba menyebabkan kekerasan photoresist melampaui spesifikasi. Satu daripada kedua-duanya menghasilkan kecacatan pada die. Kami membina pemanas IR kami untuk menghilangkan ketidakpastian itu, memberikan haba yang stabil dan boleh diulang tepat di tempat wafer diletakkan.

Inilah yang betul-betul penting di dalam sistem. Unit ini beroperasi dengan inframerah gelombang pendek yang cepat bertindak balas dan kawalan ketat, supaya suhu pulih dengan cepat selepas pemuatan wafer. Keseragaman suhu pada peringkat wafer dikekalkan ±0.1°C di seluruh zon panas, yang menjaga tempoh soft bake dan hard bake dalam lingkungan yang diinginkan.