Mengapa kita beralih kepada penggunaan haba inframerah untuk penghasilan semikonduktor bebas plumbum
Tuntutan untuk menggunakan standard yang mesra alam dan bebas plumbum memaksa kita untuk memikirkan semula cara kita dalam proses pengeringan. Ketuhar konvensional sudah tidak lagi mencukupi. Itulah sebabnya kita beralih kepada penggunaan pemanas inframerah di dalam ruang vakum.
Daripada menggunakan udara panas untuk memanaskan bahan tersebut, pemanas inframerah menggunakan radiasi elektromagnetik. Ini merupakan cara yang lebih efektif. Kita tidak perlu lagi bergantung pada pelarut kimia yang berbahaya, dan jejak karbon yang dihasilkan semasa proses pengeringan juga berkurangan dengan ketara.
Menghadapi masalah haba dalam keadaan vakum
Masalahnya ialah dalam keadaan vakum, proses konveksi tidak dapat berlaku. Kita tidak boleh sekadar meniup udara panas untuk memanaskan bahan tersebut. Pemanas inframerah menyelesaikan masalah ini dengan menghantar foton secara langsung ke permukaan bahan tersebut. Cara ini lebih cepat. Kita boleh mengeringkan bahan pelekat dan bahan fotoreseist tanpa perlu membazir tenaga untuk memanaskan setiap inci daripada ruang vakum tersebut. Kita hanya perlu memberi tumpuan pada kawasan tertentu yang memerlukan pemanasan sahaja.
Komponen utama sumber haba
Untuk mendapatkan suhu yang diperlukan, kita menggunakan pemancar inframerah berfrekuensi pendek atau sederhana. Pemancar ini mampu menghasilkan tenaga yang tinggi dalam ruang yang sangat kecil. Biasanya, pemancar ini dilindungi dengan kuarsa agar wafer tidak tercemar. Namun, ada satu masalah: kerana tiada udara untuk mengalirkan haba keluar dari pemancar tersebut, kita perlu menggunakan sistem penyejukan air yang sesuai. Jangan abaikan perkara ini. Jika sistem penyejukan gagal, komponen-komponen tersebut akan rosak sebelum kita sedar apa yang berlaku.
Kelebihan dan kekurangan penggunaan haba inframerah
Kelajuannya sangat luar biasa. Masa yang diperlukan untuk proses pengeringan dapat dikurangkan dari beberapa jam menjadi beberapa minit sahaja. Namun, ia bukanlah cara yang sempurna. Haba inframerah bersifat tertumpu. Jika bahan yang digunakan mempunyai bentuk yang rumit, akan timbul “kawasan sejuk” di mana haba tidak dapat sampai ke sana. Untuk mengatasi masalah ini, kita perlu menggunakan beberapa pemancar atau reflektor untuk memastikan wafer dipanaskan secara merata.
Kelebihan utamanya ialah kita tidak perlu membuang gas berbahaya ke udara. Ia merupakan cara yang lebih bersih dan cepat untuk proses pengeringan bahan bebas plumbum—selagi sistem bekalan kuasa dan sistem penyejukan mampu menangani haba yang dihasilkan.