Mengapa anda harus berhenti menggunakan udara panas untuk mengeringkan wafer MEMS anda
Jika anda pernah bekerja di fasiliti pengeluaran MEMS, pasti anda tahu prosesnya. Setelah selesai proses etching atau pembersihan, anda perlu menghilangkan kelembapan yang masih ada pada wafer tersebut. Kebanyakan kaedah lama menggunakan udara panas untuk tujuan ini. Namun, kaedah ini memerlukan masa yang lama. Selain itu, penggunaan udara panas juga boleh menyebabkan zarah-zarah kotor melekat pada wafer tersebut.
Masalah yang timbul
Fikirkan bagaimana udara panas berfungsi. Anda perlu memanaskan seluruh bilik sebelum wafer mula kering. Ini merupakan pembaziran masa.
Sebaliknya, cahaya inframerah berfungsi dengan cara yang berbeza. Cahaya ini mengeluarkan gelombang pendek yang langsung memanaskan wafer. Dengan cara ini, masa yang diperlukan untuk mengeringkan wafer dapat dikurangkan dari beberapa minit menjadi beberapa saat sahaja.
Apabila anda ingin menghasilkan lebih banyak wafer dalam satu jam, ini merupakan kelebihan yang besar. Anda tidak perlu membina bilik pembersihan yang lebih besar atau menggunakan ruang yang lebih luas.
Cabaran yang perlu dihadapi
Anda tidak boleh sekadar menaikkan suhu udara dan berharap hasil yang baik. Kami menggunakan lampu kuarsa berintensiti tinggi untuk mencapai kesan pengeringan yang cepat, tetapi anda perlu berhati-hati. Jika terlalu banyak tenaga digunakan pada kawasan kecil, ia boleh merosakkan wafer atau membran MEMS tersebut. Oleh itu, kita perlu menggunakan pengawal suhu yang tepat untuk memastikan suhu tetap stabil.
Masalah sebenar
Sejujurnya, beralih kepada penggunaan cahaya inframerah bukanlah sesuatu yang mudah. Tenaga radiasi yang dihasilkan sangat kuat. Walaupun wafer dapat dikeringkan dengan cepat, komponen elektronik yang digunakan juga akan rosak jika tidak dijaga dengan baik. Anda perlu menggunakan pelindung haba yang sesuai atau sistem penyejukan yang efektif untuk mengelakkan komponen tersebut daripada rosak.
Namun, usaha ini berbaloi. Kebanyakan fasiliti pengeluaran MEMS telah beralih kepada penggunaan cahaya inframerah kerana ia dapat mengurangkan turbulensi dan menjaga kebersihan wafer. Ini membolehkan proses pengeluaran berjalan dengan lebih cepat.