<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>トラック on Warm IR Heating Hardware</title>
		<link>http://warm-ir-heater-ware.com/ja/tags/%E3%83%88%E3%83%A9%E3%83%83%E3%82%AF/</link>
		<description>Recent content in トラック on Warm IR Heating Hardware</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 06 Jun 2026 00:54:59 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-ware.com/ja/tags/%E3%83%88%E3%83%A9%E3%83%83%E3%82%AF/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>ウェハートラック加熱ランプ</title>
				<link>http://warm-ir-heater-ware.com/ja/posts/wafer-track-heating-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 06 Jun 2026 00:54:59 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-ware.com/ja/posts/wafer-track-heating-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ware.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;ウェハートラック加熱ランプ&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;リソグラフィフロアでは、たった1℃のずれでもソフトベーク時にフォトレジストの膜厚が規格外になる。ハードベークの非均一性はパターン崩壊の原因となる。ウェハートラック上の加熱ランプは単なる部品ではなく、プロセスの信頼性をシフトごとに維持するための熱的基準点である。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
