Lampada di riscaldamento per tracciatore di wafer

Sat, 06 Jun 2026 00:54:58 +0800

Sulla linea di litografia, un soft bake con una deriva anche di un solo grado fa uscire lo spessore del fotoresist dalle specifiche. La non uniformità del hard bake? È un invito al collasso del pattern. Le lampade di riscaldamento su un wafer track non sono solo componenti: sono l’ancora termica che mantiene il processo sotto controllo, turno dopo turno.

Cosa conta sotto il cofano
Abbiamo costruito questa lampada attorno a emettitori alogeni a infrarossi a onde corte (SWIR) in un involucro di quarzo. L’obiettivo è un’accoppiamento diretto di energia nel fotoresist, senza riscaldare la camera. Si ottiene un’uniformità termica a livello wafer entro ±0,1°C sulla superficie di baking, e una stabilità del setpoint che regge il ritmo 24/7 della fabbrica. La potenza resta ripetibile da 100°C a 250°C, con un recupero sotto il secondo dopo il carico del wafer, così il budget termico rimane controllato. Il package è compatibile con cleanroom di Classe 1–100, verificato a emissione zero di particelle tramite monitoraggio in situ, e si inserisce nelle footprint e negli standard di interfaccia delle principali piattaforme wafer track.

Traccia on Warm IR Heating Hardware

Lampada di riscaldamento per tracciatore di wafer