Bulbo di riscaldamento a ioduro di quarzo per semiconduttori

Wed, 17 Jun 2026 11:10:40 +0800

Nella linea da 300 mm, uno scostamento di 2°C durante la fase di essiccazione non rappresenta semplicemente un cambiamento nella larghezza delle linee tracciate sui wafer: si tratta invece di una serie di wafer andati sprecati. Per questo abbiamo progettato una lampada a riscaldamento a ioduro di quartzo in grado di mantenere il comportamento termico entro i limiti tollerabili, anche quando la linea di produzione funziona a pieno regime.

Cosa è importante in realtà
L’emettitore è costituito da un elemento a ioduro di quartzo a onde corte, racchiuso in un contenitore in quartzo ad alta purezza. Questo elemento permette di generare calore rapidamente, con bassa inertzia termica. Sulla superficie su cui avviene l’essiccazione, l’uniformità della temperatura rimane entro i limiti di ±0,1°C; quindi il fotorestituto riceve una temperatura costante, senza zone troppo calde. Il profilo termico della lampada garantisce un controllo preciso della temperatura sia durante la fase di essiccazione delicata che quella intensiva. Inoltre, l’output energetico rimane stabile, permettendo così di mantenere le dimensioni critiche dei wafer entro i limiti richiesti anche dopo lunghi periodi di funzionamento. La compatibilità con ambienti di tipo Cleanroom classe 1–100 deriva dall’uso di materiali con bassa emissione di gas e dalla struttura della lampada che evita la formazione di particelle quando la lampada diventa calda.

Alogenuri on Warm IR Heating Hardware

Bulbo di riscaldamento a ioduro di quarzo per semiconduttori