Pengeringan on Warm IR Heating Hardware

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Sun, 26 Jul 2026 09:57:42 +0800

Mengapa Anda harus berhenti menggunakan udara panas untuk mengeringkan wafer MEMS
Jika Anda pernah bekerja di pabrik MEMS, Anda pasti tahu prosesnya. Setelah proses etching atau pembersihan selesai, langkah selanjutnya adalah menghilangkan kelembapan dari wafer tersebut. Di pabrik-pabrik lama, orang-orang biasanya menggunakan udara panas untuk mengeringkan wafer. Hal ini sering terjadi di mana-mana.

Tapi masalahnya adalah, udara panas memiliki efektivitas yang rendah. Proses pengeringan membutuhkan waktu yang lama karena bergantung pada konveksi udara. Selain itu, penggunaan udara panas justru membuat partikel-partikel kotor menempel di tempat yang seharusnya tidak ada partikel tersebut.

Mengeringkan semikonduktor sebelum proses pengemasan di pabrik

Mon, 22 Jun 2026 18:47:10 +0800

Tepat sebelum proses pengemasan, kelembapan yang masih tersisa setelah proses pembersihan tidak akan tetap berada di tempatnya saja—kelembapan tersebut dapat meresap ke dalam lapisan pelindungnya. Hal ini akan mengubah nilai CTE, sehingga meningkatkan risiko terjadinya delaminasi di masa depan. Jika Anda masih menggunakan pemanas konvensional, maka Anda akan menghadapi masalah seperti pembentukan gelembung di tepi wafer, serta masalah partikel yang sulit diatasi. Anda membutuhkan proses pengeringan dan perlakuan panas yang efektif, akurat, dan dapat diulangi berulang kali.

Lampu pengering wafer yang murah

Thu, 18 Jun 2026 00:52:08 +0800

Di area litografi, fluktuasi suhu yang tidak terkendali akan merusak kontrol lebar garis gambar yang dihasilkan. Suhu yang terlalu tinggi di satu bagian dan terlalu rendah di bagian lain justru akan menyebabkan kerusakan pada lapisan fotoresist. Proses pengeringan wafer bukanlah hal yang sepele; hal ini sangat penting untuk mempertahankan kualitas produksi. Kami merancang bohlam pengering wafer sedemikian rupa agar suhu tetap terkendali, bahkan ketika anggaran produksi harus dipertimbangkan.

Yang penting secara teknis:
Bolam ini dirancang untuk menciptakan keseragaman suhu pada permukaan wafer dalam rentang ±0,1°C. Dengan demikian, lapisan fotoresist akan mendapatkan kondisi termal yang serupa setiap kali proses pengeringan dilakukan. Profil gelombang inframerah pendeknya bermanifestasi dengan cepat dan pulih dengan cepat pula, sehingga waktu siklus pengeringan tetap terjaga tanpa adanya fluktuasi suhu yang berlebihan. Selubung kuarsa digunakan agar bohlam cocok digunakan di ruang bersih kelas 1–100. Geometri filamen dan struktur penyangga juga dirancang sedemikian rupa agar penyerapan partikel selama operasional tetap minimal. Kinerja bohlam tetap stabil selama lebih dari 5.000 jam, dan ukurannya sesuai dengan standar holder bohlam yang digunakan dalam modul pengeringan.