<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Epitaksis on Warm IR Heating Hardware</title>
		<link>http://warm-ir-heater-ware.com/id/tags/epitaksis/</link>
		<description>Recent content in Epitaksis on Warm IR Heating Hardware</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 25 Jun 2026 01:08:06 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://warm-ir-heater-ware.com/id/tags/epitaksis/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu inframerah untuk pemanasan proses epitaksi</title>
				<link>http://warm-ir-heater-ware.com/id/posts/epitaxy-heating-infrared-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 25 Jun 2026 01:08:06 +0800</pubDate>
				<guid>http://warm-ir-heater-ware.com/id/posts/epitaxy-heating-infrared-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ware.com/images/016cf4f616aaa15e4af48856b8adc51b.png&#34; alt=&#34;Lampu inframerah untuk pemanasan proses epitaksi&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di sana, wafer berdiameter 200 mm menunggu gilirannya untuk diberi lapisan fotoresist. Proses pemanasan ini bukanlah hal yang boleh diabaikan—itu merupakan bagian dari spesifikasi produksi yang harus dipatuhi. Jika suhu berubah sedikit saja, dimensi penting dari wafer pun akan berubah. Dengan demikian, proses produksi akan gagal. Kami menggunakan lampu inframerah untuk memastikan bahwa tidak ada penurunan kualitas pada wafer selama proses pemanasan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
