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		<title>MEMS on Warm IR Heating Hardware</title>
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		<description>Recent content in MEMS on Warm IR Heating Hardware</description>
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				<title>Chauffeur de séchage pour wafer de capteur MEMS</title>
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				<pubDate>Sun, 26 Jul 2026 09:51:17 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://warm-ir-heater-ware.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;Chauffeur de séchage pour wafer de capteur MEMS&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Pourquoi vous devriez cesser d’utiliser de l’air chaud pour le séchage des wafers MEMS&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Si vous avez déjà travaillé dans une usine de fabrication de MEMS, vous &lt;a href=&#34;https://goldisgood.com&#34;&gt;connaissez&lt;/a&gt; bien la procédure : après l’étape d’etchage ou de nettoyage, il faut éliminer toute l’humidité restante sur les wafers. La plupart des méthodes traditionnelles &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;consistent&lt;/a&gt; à utiliser de l’air chaud pour cela. On voit ça partout.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Mais voici le problème : l’air chaud est lent. Il repose sur la convection, ce qui prend énormément de temps lorsque l’on souhaite respecter des délais stricts. De plus, l’utilisation d’air chaud invite les particules à se déposer là où elles ne devraient pas se trouver.&lt;/p&gt;</description>
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