Ampoule on Warm IR Heating Hardware

Ampleure de lampe de séchage de wafer bon marché

Thu, 18 Jun 2026 00:52:08 +0800

Sur le plan de la lithographie, une légère variation de température pendant le processus de cuisson peut perturber le contrôle de la largeur des lignes tracées. Une cuisson trop intense, avec des zones chaudes et froides, entraîne inévitablement des défauts dans le photo-résistant. Le séchage des wafer n’est pas une simple tâche secondaire : c’est un élément crucial pour assurer une qualité optimale des produits finis. Nous avons conçu nos ampoules de séchage de manière à maintenir cette température sous contrôle, même lorsque l’on cherche à réduire les coûts de production.

Ampleur de chauffage halogène en quartz pour semi conducteurs

Wed, 17 Jun 2026 11:10:40 +0800

Sur la ligne de 300 mm, une déviation de 2 °C pendant le processus de cuisson n’est pas simplement un décalage dans la précision des lignes tracées sur la wafer. Cela entraîne en fait des pertes importantes liées aux wafer qui ne peuvent être utilisés. C’est pourquoi nous avons conçu une ampoule chauffante au halogène en quartz, afin de maintenir le comportement thermique de la wafer dans les limites prévues, même lorsque l’usine fonctionne à pleine capacité.

Ampoule infrarouge avec réflecteur doré

Thu, 04 Jun 2026 00:38:04 +0800

Sur le plancher de production, on apprend vite qu’un décalage de seulement un demi-degré lors d’un bake de photoresist peut décaler les largeurs de ligne au point de rendre inutilisables un grand nombre de wafers. La disponibilité et la répétabilité ne sont pas des « options ». Elles constituent le processus.

Ce qui compte réellement en interne

Nous avons conçu l’ampoule infrarouge avec un réflecteur en or pour fournir une chaleur stable, directionnelle, avec un contrôle spectral précis. Le résultat est une uniformité de température au niveau du wafer dans ±0,1°C sur toute la surface de cuisson. Le réflecteur en or améliore l’efficacité rayonnante, réduisant ainsi le temps de chauffe et accélérant la stabilisation du point de consigne.
Vous obtenez une sortie constante après plus de 5 000 heures, avec une chute d’intensité inférieure à 5 %. De plus, la conception élimine toute génération de particules, ce qui est conforme aux exigences des salles blanches de classes 1 à 100.