Quarzkörperheizung für Wafer Spül Trockner

Sun, 07 Jun 2026 01:08:06 +0800

Auf dem Fertigungsboden ist ein Spül- und Trockner, der Wasserflecken hinterlässt oder die Temperatur nicht innerhalb von ±0,1°C halten kann, kein Engpass – er reduziert die Ausbeute. Wafer, die aus der sauberen Spülung kommen, müssen Feuchtigkeit ohne thermische Belastung, ohne Photoresist-Verzerrung und ohne Partikeleinschleppung abgeben. Die Heizung unter der Haube muss wiederholbare Wärme schnell liefern und sauber bleiben.

Wir konstruieren den Quarzheizer für Spül- und Trocknungsgeräte auf Basis kurzwelliger Infrarotstrahlung und thermoelektrischer Homogenität auf Wafer-Ebene. Das Quarzgehäuse gewährleistet hohe Reinheit und schnelle Hochlaufzeiten, während das integrierte Widerstandselement eine stabile Leistung bei 100–480 V-Konfigurationen in einem kompakten Aufbau gewährleistet. Es ist mit einer ±0,1°C-Uniformität über den aktiven Bereich zu rechnen, die Sollwert-Erholung erfolgt in unter einer Sekunde nach Türzyklen, und Kompatibilität mit Reinraumklasse 1–100 wird bei null Partikelabgabe sichergestellt. Wiederholbarkeit ist im thermischen Profil verankert, sodass jeder Back- und Trocknungsschritt identisch zum vorherigen Lauf erfolgt.

Spülen on Warm IR Heating Hardware

Quarzkörperheizung für Wafer Spül Trockner