Glühbirne on Warm IR Heating Hardware

Günstige Glühbirne für die Trocknung von Wafers

Thu, 18 Jun 2026 00:52:08 +0800

Im Bereich der Lithografie kann eine geringe Temperaturschwankung während des Trocknungsprozesses dazu führen, dass die Kontrolle über die Dicke der Schichtungen nicht mehr möglich ist. Eine zu hohe Temperatur an einem Ort und eine zu niedrige Temperatur an einem anderen Ort führt wiederum dazu, dass der Photolack versagt. Das Trocknen der Wafer ist keine Nebentätigkeit – es ist vielmehr ein entscheidender Faktor für die Produktqualität. Wir haben die Lampen dafür konzipiert, diese Prozesse auch unter Berücksichtigung finanzieller Aspekte unter Kontrolle zu halten.

Quarz Halogenheizlampe für Halbleiter

Wed, 17 Jun 2026 11:10:40 +0800

Bei der 300-mm-Linie bedeutet eine Abweichung von 2 °C während des Weichbrennvorgangs nicht nur eine Verschiebung der Linienbreite – es handelt sich dabei auch um eine Menge verschwendeter Wafer. Deshalb haben wir eine Quarz-Halogenheizlampe entwickelt, die das thermische Verhalten innerhalb des gewünschten Bereichs aufrechterhält – selbst dann, wenn die Anlage bei voller Leistung arbeitet.

Was wirklich wichtig ist
Der Emittent ist ein Kurzwellenhalogenstrahler, der sich in einer hochreinen Quarzhülle befindet. Er entwickelt schnelle, strahlende Wärme mit geringer thermischer Trägheit. Auf der Oberfläche des Wafer bleibt die Temperaturkonstanz bei ±0,1 °C – dadurch erhält der Photoresist eine konstante Temperatur anstelle von Hotspots. Das Profil der Heizlampe sorgt für eine konstante Temperatur sowohl beim Weich- als auch beim Hartbrennvorgang. Die Ausgangstemperatur bleibt stabil genug, damit die kritischen Abmessungen über lange Zeit im gewünschten Bereich bleiben. Die Kompatibilität mit Reinräumen der Klassen 1–100 wird durch Materialien mit geringer Gasemission sowie durch eine Konstruktion gewährleistet, die bei hoher Temperatur keine Partikel freisetzt.

Infrarotlampe mit Goldreflektor

Thu, 04 Jun 2026 00:38:04 +0800

Auf dem Fertigungsboden lernt man schnell, dass eine Drift von nur einem halben Grad während des Photoresist-Backvorgangs ausreicht, um die Linienbreiten so zu verschieben, dass eine große Anzahl von Wafern aussortiert werden muss. Verfügbarkeit und Wiederholbarkeit sind keine „nice to have“-Faktoren. Sie sind der Prozess.

Was unter der Haube wirklich zählt

Wir haben die Infrarotlampe mit einem Goldreflektor ausgestattet, um stabile, gerichtete Wärme mit enger spektraler Kontrolle zu liefern. Das Ergebnis ist eine temperaturuniformität auf Wafer-Ebene von ±0,1°C über die gesamte Backfläche. Der Goldreflektor erhöht die Strahlungseffizienz, wodurch die Aufheizzeit verkürzt wird und der Sollwert schneller erreicht ist.
Nach mehr als 5.000 Stunden Betrieb bleibt die Ausgangsleistung konstant mit weniger als 5 % Intensitätsverlust. Das Design verhindert die Partikelbildung vollständig, was den Anforderungen an Reinraumklassen 1–100 entspricht.