¿Por qué dejamos de usar hornos convencionales y optamos por el curado por radiación infrarroja?
El mundo de los semiconductores está dejando atrás esos hornos convencionales obsoletos. Tiene sentido: con las exigencias ambientales y la necesidad de utilizar materiales libres de plomo, el método tradicional ya no es suficiente. Pasamos al curado por radiación infrarroja porque este método elimina los disolventes químicos y evita que se gaste energía en calentar aire que, de todas formas, no sirve para nada.
Así es como funciona realmente:
Imagínese un horno convencional: básicamente, se calienta un espacio lleno de aire, con la esperanza de que ese aire caliente el wafer. Es lento y poco eficiente.
El curado por radiación infrarroja es diferente: utiliza radiación electromagnética para calentar directamente la superficie del wafer. La energía llega directamente al sustrato, haciendo que las moléculas vibren y eliminando los compuestos volátiles casi al instante. Es rápido, realmente rápido. Los tiempos de secado pasan de horas a unos pocos segundos.
Mejorando el proceso de curado
Si trabajamos con soldaduras libres de plomo o resinas ecológicas, debemos tener cuidado. Estos materiales son muy delicados. Si el perfil térmico no es adecuado, existe el riesgo de dañar todo el wafer.
Con la radiación infrarroja, podemos ajustar la longitud de onda –onda corta o media– para que se adapte perfectamente a las necesidades del material. Además, ya no hay que preocuparse por la huella de carbono que generan esos hornos a combustión de gas. Sin subproductos de combustión, sin emisiones de VOC. Solo calor limpio.
La parte complicada
Pero no todo es tan sencillo. Hay que tener en cuenta la densidad del calor. Dado que las lámparas de radiación infrarroja generan mucho calor en un espacio reducido, puede haber “puntos calientes” si el wafer no está colocado correctamente. Para solucionarlo, invertimos mucho tiempo en ajustar las distancias y utilizar protectores reflectantes. Queremos que el calor se distribuya de manera uniforme por todo el diámetro del wafer.
Y una advertencia: si su sistema de enfriamiento no es lo suficientemente eficaz para manejar ese aumento repentino de temperatura, podrían aparecer estrés térmicos. No se puede ignorar el proceso de enfriamiento.
Diseñamos estos sistemas para que sean un reemplazo sencillo de sus antiguos sistemas de enfriamiento. Basta conectarlos, ajustar la intensidad del calor, y de repente ya no desperdiciaremos energía en calentar un espacio inútilmente.